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弁理士 > オペレーティングパートナー 真家 大樹 |  |
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オペレーティングパートナー 真家 大樹 Oki MAYA 1976年生まれ |
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経歴 |
当事務所に加入。電子全般、特にアナログ回路の特許出願を多数担当。
２０００〜２００４
大手電器メーカー勤務。
携帯電話用半導体デバイスの設計・開発に従事。高周波アナログ回路設計技術、無線通信技術を習得。
２０００
慶応義塾大学大学院理工学研究科修士課程修了。
レーザプラズマを用いた軟エックス線レーザに関する研究に従事。
修士論文『Ni様Kr軟Ｘ線レーザに関する研究』
１９９８
慶応義塾大学理工学部電気工学科卒業。
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著作 |
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『知的財産のビジネス・トラブルQ&A』、中央経済社、２００４年１２月 |
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"Design of an Ultrahigh-Gain Ni-like Kr Soft-X-Ray Laser by Use of an Optical-Field-Induced Ionization-Initiated Transient Collisional Excitation Scheme", Jpn. J. Appl. Phys, Vol.40(2001) pp.153-158 |
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メンバー |
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日本弁理士会（ＪＰＡＡ） |
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資格 |
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２００６年 特定侵害訴訟代理権 |
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２００１年 弁理士試験合格（登録第１３３２１号） |
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実務分野 |
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特許／実用新案 |
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訴訟 |
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コンサルテーション |
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